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通用原则

1每一种无损检测方法均有其能力范围和局限性，且应---足够的实施操作空间。本部分所涉及到的各无损检测方法的能力范围和局限性见5.2，通常能检测的一般缺陷见附录a(资料性附录)。

2仅能检测表面开口缺陷的无损检测方法包括渗透检测和目视检测。掺透检测主要用于非多孔性材料；目视检测主要用于宏观可见缺陷的检测。

3能检测表面开口缺陷和近表面缺陷的无损检测方法包括磁粉检测和涡流检测。磁粉检测主要用于铁磁性材料；涡流检测主要用于导电金属材料。

4 可检测材料中任何位置缺陷的无损检测方法包括射线检测、超声检测、衍射时差法超声检

测和x射线数字成像检测。一般而言，超声检测、衍射时差法超声检测对于表面开口缺陷或近表面缺陷的检测能力低于磁粉检测、渗透检测或涡流检测。

5 为确定承压设备内部或表面存在的活性缺陷的强度和大致位置，可采用声发射检测。声发

射检测需要对承压设备进行加压试验，发现活性缺陷时应采用其他无损检测方法进行复验。

6仅能检测承压设备贯穿性缺陷或整体致密性的无损检测方法为泄漏检测。

7对于铁磁性材料，为检测表面或近表面缺陷，应优先采用磁粉检测方法，确因结构形状等原因不能采用磁粉检测时方可采用其他无损检测方法。

8 当采用一种无损检测方法按不同检测工艺进行检测时，如果检测结果不一致，应以危险度大的评定级别为准

9 当采用两种或两种以上的检测方法对承压设备的同一部位进行检测时，应按各自的方法评定级别。

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胶片处理和底片检测

胶片处理

胶片处理一般应按胶片使用说明书的规定进行。可采用自动冲洗或手工冲洗方式处理，采用自动冲洗方式处理。原则上应采用胶片厂家生产或的冲洗配方或药剂，并按照 gb/t 19348.的规定，经比较试验证明的条件下，也可以使用其他厂家的配方或药剂。

手工冲洗和自动冲洗胶片宜在---后 8h之内完成，长不得超过24。5.14.2底片检验

暗室处理后的底片---盐离子的浓度一般应低于 .050g/m。底片上---盐离子的浓度测量可参考附录 k的要求执行，北京特种设备年度检查，测量结果应记录。

检验的频率由检测方确定，但在此期间暗室处置条件应保持不变。如果检验发现，---盐离子浓度大于 0.050g/m，应来取以下行动:

a)停止暗室处理，并采取纠正措施;

b重新核定影和冲序验证的符合性

c)重新处置所有含有缺陷的底片。