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校准试块
校准试块应采用与被检工件相同或相近的材料制作。除合同有关各方另有约定之外,应在校准试块上用线切加工出 0.5mm10mm 和2.mm 深的人工刻。刻---的公差应为0.1mm。刻槽的宽度应≤0.2 mm。
可采用已知厚度的非导体弹性垫片来模拟涂层,也可直接在校准试块上喷涂实际涂层。垫片厚度为0.5mm的整---
可采用已知厚度的非导体垫片来模拟覆盖层,也可直接在校准试块上喷涂实际覆盖层。
垫片厚度为 0.5mm的整---。

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无损检测工艺文件
检测单位应制定无损测工艺文件,无损检测工艺文件包括工艺规和操作指导书。应根据相关法规、产品标准、有关的技术文件和本标准的要求,并针对本检测单位的特点和技术条件编制工艺规程工艺规程应按本部分b/t 7013.27013.13的定确其关因素的具体范围或要求,如相关因素的变化超出规定时,应重新编制或修订。应根据工艺规程并结合检测对象的具体检测要求编制操作指导书;操作指导书中的内容应完整、明确和具体;操作指导书在应用时应进行工艺验证,验证可采用对比试块、模拟试块或直接在检测对象上进行。无损检测工艺文件的内容应满足本部分和 nb/t 47013.2 ~ 7013.13 的相关要求

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胶片处理和底片检测
胶片处理
胶片处理一般应按胶片使用说明书的规定进行。可采用自动冲洗或手工冲洗方式处理,采用自动冲洗方式处理。原则上应采用胶片厂家生产或的冲洗配方或药剂,并按照 gb/t 19348.的规定,经比较试验证明的条件下,也可以使用其他厂家的配方或药剂。
手工冲洗和自动冲洗胶片宜在---后 8h之内完成,长不得超过24。5.14.2底片检验
暗室处理后的底片---盐离子的浓度一般应低于 .050g/m。底片上---盐离子的浓度测量可参考附录 k的要求执行,测量结果应记录。
检验的频率由检测方确定,但在此期间暗室处置条件应保持不变。如果检验发现,---盐离子浓度大于 0.050g/m,应来取以下行动:
a)停止暗室处理,并采取纠正措施;
b重新核定影和冲序验证的符合性
c)重新处置所有含有缺陷的底片。

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