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胶片处理和底片检测
胶片处理
胶片处理一般应按胶片使用说明书的规定进行。可采用自动冲洗或手工冲洗方式处理,采用自动冲洗方式处理。原则上应采用胶片厂家生产或的冲洗配方或药剂,并按照 gb/t 19348.的规定,经比较试验证明的条件下,也可以使用其他厂家的配方或药剂。
手工冲洗和自动冲洗胶片宜在---后 8h之内完成,长不得超过24。5.14.2底片检验
暗室处理后的底片---盐离子的浓度一般应低于 .050g/m。底片上---盐离子的浓度测量可参考附录 k的要求执行,测量结果应记录。
检验的频率由检测方确定,但在此期间暗室处置条件应保持不变。如果检验发现,---盐离子浓度大于 0.050g/m,应来取以下行动:
a)停止暗室处理,rd2压力容器探伤,并采取纠正措施;
b重新核定影和冲序验证的符合性
c)重新处置所有含有缺陷的底片。

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相控阵检测技术和传统手工超声波检测的原理相同,都是利用超声波反射法对被检工件进行检测,不同的是,传统的超声波检测使用单件探头来偏转声束。在某些情况下,双晶片或单元件---探头也用于减少盲点和提高分辨率。但无论如何,超声波场在介质中以一个角度沿轴传播。单角度扫描---了不同方向的定性和定量超声检测的可能性。因此,“有效”的标准需要使用多角度光束扫描来提高检测速度。然而,对于复杂的几何形状、大壁厚或有限的探头扫描空间难以实现检测,因此需要多元件相控阵探头和电子---声束来满足上述情况下的检测要求。相控阵探头可实现角度偏转和动态---,这就使超声波检测从二维方向移动变成一维方向移动,可以外置编码器以实现图像存储,经过对a扫、b扫、c扫或d扫图像的分析可有效地检出各种面状缺陷和体积型缺陷。检测结果还可以三维图像显示,为缺陷定位、定量、定性、定级等提供了丰富的信息。与上述tofd检测技术一样也可实现图像存储,这就为后续的复核与校验提供条件,rd2压力容器无损检测机构,使得检测结果有效可查询。
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校准试块
校准试块应采用与被检工件相同或相近的材料制作。除合同有关各方另有约定之外,应在校准试块上用线切加工出 0.5mm10mm 和2.mm 深的人工刻。刻---的公差应为0.1mm。刻槽的宽度应≤0.2 mm。
可采用已知厚度的非导体弹性垫片来模拟涂层,也可直接在校准试块上喷涂实际涂层。垫片厚度为0.5mm的整---
可采用已知厚度的非导体垫片来模拟覆盖层,也可直接在校准试块上喷涂实际覆盖层。
垫片厚度为 0.5mm的整---。

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